Авторы |
Уткин Кирилл Эдуардович, заместитель начальника цеха микроэлектроники, Научно-исследовательский институт
физических измерений (Россия, г. Пенза, ул. Володарского, 8/10), niifi@sura.ru
Торгашин Сергей Иванович, кандидат технических наук, заместитель генерального директора по производству и технологиям, Научно-исследовательский институт физических измерений (Россия, г. Пенза, ул. Володарского, 8/10), niifi@sura.ru
Хошев Александр Вячеславович, кандидат технических наук, инженер, Научно-исследовательский институт физических измерений (Россия, г. Пенза, ул. Володарского, 8/10), niifi@sura.ru
|
Аннотация |
Актуальность и цели. В настоящее время интенсивно развивается метод магнетронного распыления, обеспечивающий контролируемое распыление тонких слоев с требуемыми параметрами. При многократном использовании мишени на ней образуется зона эрозии (канавка), непосредственно влияющая на скорость распыления материала (толщину пленки). Уменьшение толщины тонкой пленки приводит к увеличению удельного электрического сопротивления, т.е. к невоспроизводимости требуемых характеристик и параметров. Цель работы – напыление тонких пленок требуемых параметров и характеристик с использованием мишени длительного и многократного использования.
Материалы и методы. Проведено определение зависимости толщины и сопротивления пленки от глубины эрозии мишени. Определена зависимость толщины пленки от времени распыления, исходя из глубины эрозии мишени.
Результаты. Возможно производить управляемый синтез тонких пленок с заданными электрофизическими параметрами методом магнетронного распыления, улучшить воспроизводимость требуемых параметров при длительном и многократном использовании мишени.
Выводы. Управляемый синтез тонких пленок, полученных методом магнетронного напыления, позволит получить заданные параметры и характеристики с использованием мишени длительного и многократного использования.
|
Ключевые слова
|
металлопленочные датчики давления, синтез тонких пленок, образование канавки при напылении тонких пленок, метод магнетронного распыления, время напыления тонких пленок
|
Список литературы |
1. Хошев, А. В. Экспериментальное исследование характеристик магнетронного распыления / А. В. Хошев, С. В. Тимаков // Датчики и системы : cб. докл. 29 науч.-практ. конф. молодых ученых и специалистов. – Пенза : ОАО «НИИФИ», 2010. – С. 148–159.
2. Технология тонких пленок (справочник) / под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга ; пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко. – Нью-Йорк, 1970. – М. : Сов. радио, 1977. – Т. 1. – 664 с.
3. Смирнова, К. И. Тонкие пленки в микроэлектронике : учеб. пособие / К. И. Смирнова. – Томск : ТУСУР, 2007. – 91 с.
4. Получение и свойства композиционных покрытий на основе металл – углерод с нано-кристаллической структурой / С. А. Ширяев, М. В. Атаманов, М. И. Гусева, Ю. В. Мартыненко, А. В. Митин, В. С. Митин, П. Г. Московкин // Журнал технической физики. – 2002. – Вып. 2, т. 72. – С. 99–104.
|